20210611行业新闻汇总

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扩充封装产能,日月光半导体购入新建厂办大楼

据台媒报导,日月光投控子公司日月光半导体经其董事会决议通过,向关系人宏璟建设购入 K25 新建厂办大楼一案,双方议定未税交易金额为 23.62 亿元(新台币,下同),因应未来扩充传统及先进封装产能,以及提升生产制造支持效能。

日月光投控表示,该交易分别为高雄市楠梓区科技路 2 号的地下 3 楼至地上 9 楼建物以及高雄市楠梓区科技路 6 号面积 6.86 坪的仓库,交易总坪数为 1.9056 万坪。

日月光投控指出,半导体为配合其高雄厂营运成长,拟购入位于楠梓科技产业园区第二园区的 K25 新建厂办大楼,主要设置打线封装及覆晶封装产能,以因应高雄厂区未来产能扩充所需,以最佳产能配置提升日月光半导体在第二园区的封装及测试一元化服务效能,强化整体营运发展。

日月光投控强调,本案交易价格订定主要参酌戴德梁行不动产估价师事务所及第一太平戴维斯不动产估价师事务所两家专业估价机构出具的估价报告书,并与宏璟公司议价及洽请会计师就交易价格出具合理性意见书后,经日月光半导体董事会决议通过,相关程序业依该公司之取得或处分资产处理程序规定办理。

 

创见:Q2营收持稳向上,预计下半年需求仍大于供给

受惠产品量价齐扬,存储模组厂创见5月营收仍在12.5亿元(新台币,下同)之上水平,达12.77亿元,因去年同期受疫情影响基期低,单月营收年增53.55%,第二季营收持稳向上,加上产品涨价效应,营运可望比第一季持续成长。

第一季DRAM价格正式起涨,第二季DRAM价格续涨且NAND Flash价格也止跌回升。展望后市,公司预估今年下半年产业环境需求仍将大于供给,面对原物料及零组件缺货的情况,创见将继续强化供应链管理和实时生产策略。

 

世界先进:第二季度ASP拉升近5%,月产能环比增长5%

世界先进 5月营收 34.09 亿元(新台币,下同),受惠晶圆出货量增加,加上 ASP 拉升,营收月增 7.52%,年增 23.06%,创单月历史次高,仅次于今年3月;前5月累计营收 157.6 亿元,年增 19.4%。

世界先进预估,第二季营收将达 98-102 亿元、再创高,4、5 月营收累计已达 65.8 亿元,法人预期,财测可望顺利达阵。

世界先进第二季 ASP 将拉升近 5%,主要受惠产品价格调涨与产品组合改善;随着工作天数恢复正常,加上新加坡新增产能上线,整体月产能将季增 5%,达 23.8 万片 8 英寸晶圆,预期今年全年都将维持相当高的产能利用率。

据世界先进财测,第二季毛利率将达 39-41%,可望突破 40% 大关、创新高,营益率 27.5-29.5%,双率均较上季成长。

世界先进表示,在供不应求与需求产生结构性改变下,市场看得较远,今年确定会是非常紧的一年,吃紧情况可能延续至 2022 年。

 

台积电:5月营收回升力道低于预期,6月苹果拉货有望弹升

台积电5月营收约为新台币1,123.6亿元,较上月增加0.9% ,回升力道略微低于预期,但还是比去年同期增加了19.8%。从台积电的4月和5月营收来看,6月营收必须强劲回升到1,400亿元之上,才能达成财测。

累计台积电2021年1至5月营收约为新台币5,860亿8,500万元,较去年同期增加了17.1%。不过,从单月营收表现来看台积电5月营收回升力道略低于预期,法人认为,可能还是受到大客户苹果和新台币升值的双重影响。

法人表示,每季的最后一个月往往是台积电客户拉货旺季,尤其,苹果即将展开下半年新iPhone处理器拉货,台积电6月业绩可望弹升,第2季营运目标应可顺利达成,季营收将约129亿至132亿美元,不排除有机会刷新单季业绩历史新高纪录。

高效能运算需求持续成长,是推升台积电第2季业绩攀高的主要动力,只是5nm制程尚未达经济规模,随着5nm制程比重提升,台积电第2季毛利率可能下探49.5%至51.5%,营业利益率为38.5%至51.5%,双率将较首季下滑。

 

TELASML合力研制下一代NA EUV光刻机,预计2023年投入运行

据悉,日本最大半导体成膜、蚀刻设备公司东京电子宣布,将在镀膜/显影技术上与ASML合作,以联合推进其下一代NA EUV光刻机的研制,确保2023年投入运行。参与该EUV光刻机研发的还有比利时的欧洲微电子中心。

东京电子表示,自旋金属抗蚀剂已显示出高分辨率和高蚀刻电阻,并有望使图案更加精细。然而,含有金属的抗蚀剂也需要复杂的图案尺寸控制以及对晶片背面/斜面金属污染的较好控制。为了应对这些挑战,涂层/开发人员正在联合高NA实验室安装先进的工艺模块,能够处理含金属的抗蚀剂。

有观点将当前ASML已经出货的NXE:3400B/3400C乃至年底的3600D称作第一代EUV光刻机,依据是物镜的NA(数值孔径)为0.33,所谓下一代也就是第二代的NA提升到0.55。0.55NA比0.33NA有着太多优势,包括更高的对比度、图形曝光更低的成本、更高的生产效率等。

EXE:5000之后还有EXE:5200,它们将是2nm、1nm的主要依托。

 

注明:该文章内容出自【中国闪存市场】

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